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The Science and Engineering of Microelectronic Fabrication (The Oxford Series in Electrical and Computer Engineering) - Hardcover

 
9780195105087: The Science and Engineering of Microelectronic Fabrication (The Oxford Series in Electrical and Computer Engineering)

Inhaltsangabe

The Science and Engineering of Microelectronic Fabrication provides an introduction to microelectronic processing. Geared towards a wide audience, it may be used as a textbook for both first year graduate and upper level undergraduate courses and as a handy reference for professionals. The text covers all the basic unit processes used to fabricate integrated circuits including photolithography, plasma and reactive ion etching, ion implantation, diffusion, oxidation, evaporation, vapour phase epitaxial growth, sputtering and chemical vapour deposition. Advanced processing topics such as rapid thermal processing, nonoptical lithography, molecular beam epitaxy, and metal organic chemical vapour deposition are also presented. The physics and chemistry of each process is introduced along with descriptions of the equipment used for the manufacturing of integrated circuits. The text also discusses the integration of these processes into common technologies such as CMOS, double poly bipolar, and GaAs MESFETs. Complexity/performance tradeoffs are evaluated along with a description of the current state-of-the-art devices. Each chapter includes sample problems with solutions. The book also makes use of the process simulation package SUPREM to demonstrate impurity profiles of practical interest.

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Reseña del editor

The Science and Engineering of Microelectronic Fabrication provides an introduction to microelectronic processing. Geared towards a wide audience, it may be used as a textbook for both first year graduate and upper level undergraduate courses and as a handy reference for professionals. The text covers all the basic unit processes used to fabricate integrated circuits including photolithography, plasma and reactive ion etching, ion implantation, diffusion, oxidation, evaporation, vapour phase epitaxial growth, sputtering and chemical vapour deposition. Advanced processing topics such as rapid thermal processing, nonoptical lithography, molecular beam epitaxy, and metal organic chemical vapour deposition are also presented. The physics and chemistry of each process is introduced along with descriptions of the equipment used for the manufacturing of integrated circuits. The text also discusses the integration of these processes into common technologies such as CMOS, double poly bipolar, and GaAs MESFETs. Complexity/performance tradeoffs are evaluated along with a description of the current state-of-the-art devices. Each chapter includes sample problems with solutions. The book also makes use of the process simulation package SUPREM to demonstrate impurity profiles of practical interest.

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Verlag: Oxford University Press, 1996
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Hardcover. Zustand: Fair. No Jacket. Readable copy. Pages may have considerable notes/highlighting. ~ ThriftBooks: Read More, Spend Less 2.55. Bestandsnummer des Verkäufers G0195105087I5N00

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ISBN 10: 0195105087 ISBN 13: 9780195105087
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Verlag: Oxford University Press, 1996
ISBN 10: 0195105087 ISBN 13: 9780195105087
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Anbieter: World of Books (was SecondSale), Montgomery, IL, USA

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Campbell, Stephen A.
ISBN 10: 0195105087 ISBN 13: 9780195105087
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Anbieter: Alien Bindings, BALTIMORE, MD, USA

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Hardcover. Zustand: Good. No Jacket. First Edition. Hardcover edition in Good+ condition. There are sparse highlights and underlining in ink; otherwise, the book is in Very Good condition. The covers are in great shape. The edges of the text block are stamped. The binding is square and tight. Small abrasion to the front flyleaf. The book will be carefully packaged for shipment for protection from the elements. USPS electronic tracking number issued free of charge. Bestandsnummer des Verkäufers 15114

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