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Plasma Etching: Fundamentals and Applications: 7 (Series on Semiconductor Science and Technology) - Hardcover
Inhaltsangabe
Book by Sugawara M
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Reseña del editor
The focus of this book is the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.
Biografía del autor
Professor Minoru Sugawara, Hachinohe Institute of Technology, Hachinohe-city, Aomori 031, Japan. Fax: (0) 178 25 1430
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- VerlagOUP Oxford
- Erscheinungsdatum1998
- ISBN 10 019856287X
- ISBN 13 9780198562870
- EinbandTapa dura
- SpracheEnglisch
- Anzahl der Seiten356
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Plasma Etching (Hardcover)
Verlag:
Oxford University Press, Oxford, 1998
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Plasma Etching : Fundamentals and Applications
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