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Plasma Etching: Fundamentals and Applications: 7 (Series on Semiconductor Science and Technology) - Hardcover
Inhaltsangabe
The focus of this book is the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.
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Über die Autorin bzw. den Autor
Professor Minoru Sugawara, Hachinohe Institute of Technology, Hachinohe-city, Aomori 031, Japan. Fax: (0) 178 25 1430
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- VerlagOUP Oxford
- Erscheinungsdatum1998
- ISBN 10 019856287X
- ISBN 13 9780198562870
- EinbandTapa dura
- SpracheEnglisch
- Anzahl der Seiten356
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Plasma Etching (Hardcover)
Verlag:
Oxford University Press, Oxford, 1998
ISBN 10: 019856287X
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Plasma Etching (Hardcover)
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Oxford University Press, Oxford, 1998
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Plasma Etching : Fundamentals and Applications
Verlag:
Oxford University Press, 1998
ISBN 10: 019856287X
ISBN 13: 9780198562870
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Plasma Etching : Fundamentals and Applications
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Oxford University Press, 1998
ISBN 10: 019856287X
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