Plasma Etching: Fundamentals and Applications: 7 (Series on Semiconductor Science and Technology) - Hardcover
Inhaltsangabe
The focus of this book is the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.
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Über die Autorin bzw. den Autor
Professor Minoru Sugawara, Hachinohe Institute of Technology, Hachinohe-city, Aomori 031, Japan. Fax: (0) 178 25 1430
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