Inhaltsangabe
Presents state-of-the-art research in microelectronic processing for very large scale integration. Emphasizing applications and techniques, this book provides considerable insight into Japan's technological effort in this important area of science. Focuses on research involving plasma deposition and dry etching. Considerable attention is devoted to MOS gate fabrication, the studies of the influence of process parameters on electrical properties, dry processing technologies, and the theory of plasma chemical reactions.
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Applications of Plasma Processes to VLSI Technology
Anbieter: Charles Berry, Bookseller, Lakeport, CA, USA
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Hardcover. Zustand: Very Good. Hardcover without DJ in excellent condition: slight handling, owner's name neatly rubber-stamped on top and lower page edges, otherwise unmarked. 394 pages. Bright spine gilt on dark blue. [1.6 lbs]. Book. Bestandsnummer des Verkäufers 068587
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Applications of Plasma Processes to Vlsi Technology
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Applications of Plasma Processes to VLSI Technology
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Zustand: Used: Acceptable. 1985 hardcover no dj xlibrary copy withdrawn stamp on edge of pages/ in book clean text has age spots has book plate and card pocket 394 pages::: H-10. Bestandsnummer des Verkäufers 0611IZ6DHVJ
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Applications of Plasma Processes to VLSI Technology
Verlag:
John Wiley & Sons, New York, 1985
ISBN 10: 0471869600
ISBN 13: 9780471869603
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Hard Cover. First English Language Edition. Hard blue covers, content is as new, ex library copy with usual stamps and labels, no pocket and no external markings, otherwise a fine copy, pp xiv,394. Text figures and diagrams throughout. Size: 16x24cm. Bestandsnummer des Verkäufers 005143
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