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Inhaltsangabe
Presents an extensive, comprehensive study of chemical vapor deposition (CVD). Understanding CVD requires knowledge of fluid mechanics, plasma physics, chemical thermodynamics, and kinetics as well as homogenous and heterogeneous chemical reactions. This text presents these aspects of CVD in an integrated fashion, and also reviews films for use in integrated circuit technology.
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Chemical Vapor Deposition for Microelectronics: Principles, Technology, and Applications (Materials Science and Process Technology Series)
Anbieter: ThriftBooks-Dallas, Dallas, TX, USA
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Hardcover. Zustand: Good. No Jacket. Missing dust jacket; Pages can have notes/highlighting. Spine may show signs of wear. ~ ThriftBooks: Read More, Spend Less. Bestandsnummer des Verkäufers G0815511361I3N01
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Chemical Vapor Deposition for Microelectronics: Principles, Technology, and Applications (Materials Science and Process Technology Series)
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Chemical Vapor Deposition for Microelectronics: Principles, Technology, and Applications
Verlag:
Noyes Pubns, (1987)., Parkdridge, New Jersey, U.S.A., 1987
ISBN 10: 0815511361
ISBN 13: 9780815511366
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Chemical Vapor Deposition for Microelectronics : Principles, Technology and Applications
Verlag:
Elsevier Science & Technology Books, 1988
ISBN 10: 0815511361
ISBN 13: 9780815511366
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Anbieter: Better World Books: West, Reno, NV, USA
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Zustand: Very Good. 1st Edition. Pages intact with possible writing/highlighting. Binding strong with minor wear. Dust jackets/supplements may not be included. Stock photo provided. Product includes identifying sticker. Better World Books: Buy Books. Do Good. Bestandsnummer des Verkäufers 986617-6
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