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Inhaltsangabe
Book by Sherman Arthur
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Reseña del editor
Presents an extensive, comprehensive study of chemical vapor deposition (CVD). Understanding CVD requires knowledge of fluid mechanics, plasma physics, chemical thermodynamics, and kinetics as well as homogenous and heterogeneous chemical reactions. This text presents these aspects of CVD in an integrated fashion, and also reviews films for use in integrated circuit technology.
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- VerlagWilliam Andrew Publishing
- Erscheinungsdatum1988
- ISBN 10 0815511361
- ISBN 13 9780815511366
- EinbandTapa dura
- SpracheEnglisch
- Anzahl der Seiten226
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Chemical Vapor Deposition for Microelectronics: Principles, Technology, and Applications (Materials Science and Process Technology Series)
Anbieter: HPB-Diamond, Dallas, TX, USA
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hardcover. Zustand: Very Good. Connecting readers with great books since 1972! Used books may not include companion materials, and may have some shelf wear or limited writing. We ship orders daily and Customer Service is our top priority! Bestandsnummer des Verkäufers S_427461204
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Chemical Vapor Deposition for Microelectronics: Principles, Technology, and Applications (Materials Science and Process Technology Series)
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Chemical Vapor Deposition for Microelectronics: Principles, Technology, and Applications
Verlag:
Noyes Pubns, (1987)., Parkdridge, New Jersey, U.S.A., 1987
ISBN 10: 0815511361
ISBN 13: 9780815511366
Gebraucht
Hardcover
Anbieter: Pride and Prejudice-Books, Ballston Lake, NY, USA
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Hardcover. Zustand: Near Fine. Second Printing. Original blue cloth. Previous owner's name in ink, Near Fine. No Dust Jacket. Bestandsnummer des Verkäufers 018428
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