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Inhaltsangabe
Presents an extensive, comprehensive study of chemical vapor deposition (CVD). Understanding CVD requires knowledge of fluid mechanics, plasma physics, chemical thermodynamics, and kinetics as well as homogenous and heterogeneous chemical reactions. This text presents these aspects of CVD in an integrated fashion, and also reviews films for use in integrated circuit technology.
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Chemical Vapor Deposition for Microelectronics: Principles, Technology, and Applications (Materials Science and Process Technology Series)
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Chemical Vapor Deposition for Microelectronics: Principles, Technology, and Applications (Materials Science and Process Technology Series)
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Chemical Vapor Deposition for Microelectronics : Principles, Technology and Applications
Verlag:
Elsevier Science & Technology Books, 1988
ISBN 10: 0815511361
ISBN 13: 9780815511366
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