Helium Ion Microscopy : Principles and Applications

Sprache: Englisch

Verlag: Springer, Springer, 2013

1461486599 / 9781461486596

Serie: Buch 5 von 68 - SpringerBriefs in Materials

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Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - Helium Ion Microscopy: Principles and Applications describes the theory and discusses the practical details of why scanning microscopes using beams of light ions - such as the Helium Ion Microscope (HIM) - are destined to become the imaging tools of choice for the 21st century. Topics covered include the principles, operation, and performance of the Gaseous Field Ion Source (GFIS), and a comparison of the optics of ion and electron beam microscopes including their operating conditions, resolution, and signal-to-noise performance. The physical principles of Ion-Induced Secondary Electron (iSE) generation by ions are discussed, and an extensive database of iSE yields for many elements and compounds as a function of incident ion species and its energy is included. Beam damage and charging are frequently outcomes of ion beam irradiation, and techniques to minimize such problems are presented. In addition to imaging, ions beams can be used for the controlled deposition, or removal, of selected materials with nanometer precision. The techniques and conditions required for nanofabrication are discussed and demonstrated. Finally, the problem of performing chemical microanalysis with ion beams is considered. Low energy ions cannot generate X-ray emissions, so alternative techniques such as Rutherford Backscatter Imaging (RBI) or Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS) are examined.

Bestandsnummer des Verkäufers 9781461486596

Titel
Helium Ion Microscopy : Principles and Applications
Autor
David C. Joy
Verlag
Springer, Springer
Veröffentlichungsjahr
2013
Zustand
Neu
Einband
Taschenbuch
Sprache
Englisch
ISBN-10
1461486599
ISBN-13
9781461486596
Artikelgewicht
138 Gramm
Abmessungen
235x155x5 mm
Serie
Buch 5 von 68: SpringerBriefs in Materials

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