High Power Impulse Magnetron Sputtering

Sprache: Englisch

Verlag: Elsevier Science & Technology, Elsevier, 2019

0128124547 / 9780128124543

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This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -High Power Impulse Magnetron Sputtering: Fundamentals, Technologies, Challenges and Applications is an in-depth introduction to HiPIMS that emphasizes how this novel sputtering technique differs from conventional magnetron processes in terms of both discharge physics and the resulting thin film characteristics. Ionization of sputtered atoms is discussed in detail for various target materials. In addition, the role of self-sputtering, secondary electron emission and the importance of controlling the process gas dynamics, both inert and reactive gases, are examined in detail with an aim to generate stable HiPIMS processes. Lastly, the book also looks at how to characterize the HiPIMS discharge, including essential diagnostic equipment. Experimental results and simulations based on industrially relevant material systems are used to illustrate mechanisms controlling nucleation kinetics, column formation and microstructure evolution. Englisch.…

Bestandsnummer des Verkäufers 9780128124543

Titel
High Power Impulse Magnetron Sputtering
Autor
Daniel Lundin
Verlag
Elsevier Science & Technology, Elsevier
Erscheinungsjahr
2019
Zustand
Neu
Einband
Taschenbuch
Sprache
Englisch
ISBN-10
0128124547
ISBN-13
9780128124543
Artikelgewicht
630 Gramm
Abmessungen
229x152x18 mm

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