High-Resolution X-Ray Scattering : From Thin Films to Lateral Nanostructures

Sprache: Englisch

Verlag: Springer New York, 2004

0387400923 / 9780387400921

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Zustand: Sehr gut | Seiten: 408 | Sprache: Englisch | Produktart: Bücher | During the last 20 years interest in high-resolution x-ray diffractometry and reflectivity has grown as a result of the development of the semiconductor industry and the increasing interest in material research of thin layers of magnetic, organic, and other materials. For example, optoelectronics requires a subsequent epitaxy of thin layers of different semiconductor materials. Here, the individuallayer thicknesses are scaled down to a few atomic layers in order to exploit quantum effects. For reasons of electronic and optical confinement, these thin layers are embedded within much thicker cladding layers or stacks of multilayers of slightly different chemical composition. It is evident that the interface quality of those quantum weHs is quite important for the function of devices. Thin metallic layers often show magnetic properties which do not ap­ pear for thick layers or in bulk material. The investigation of the mutual interaction of magnetic and non-magnetic layers leads to the discovery of colossal magnetoresistance, for example. This property is strongly related to the thickness and interface roughness of covered layers.…

Bestandsnummer des Verkäufers 1634323/2

Titel
High-Resolution X-Ray Scattering : From Thin Films to Lateral Nanostructures
Autor
Baumbach, Tilo
Verlag
Springer New York
Erscheinungsjahr
2004
Zustand
Sehr gut
Einband
Hardcover
Sprache
Englisch
ISBN-10
0387400923
ISBN-13
9780387400921
Auflage
2. Auflage
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