High-Resolution X-Ray Scattering

Sprache: Englisch

Verlag: Springer New York Dez 2011, 2011

1441923071 / 9781441923073

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This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -During the last 20 years interest in high-resolution x-ray diffractometry and reflectivity has grown as a result of the development of the semiconductor industry and the increasing interest in material research of thin layers of magnetic, organic, and other materials. For example, optoelectronics requires a subsequent epitaxy of thin layers of different semiconductor materials. Here, the individuallayer thicknesses are scaled down to a few atomic layers in order to exploit quantum effects. For reasons of electronic and optical confinement, these thin layers are embedded within much thicker cladding layers or stacks of multilayers of slightly different chemical composition. It is evident that the interface quality of those quantum weHs is quite important for the function of devices. Thin metallic layers often show magnetic properties which do not ap pear for thick layers or in bulk material. The investigation of the mutual interaction of magnetic and non-magnetic layers leads to the discovery of colossal magnetoresistance, for example. This property is strongly related to the thickness and interface roughness of covered layers. 428 pp. Englisch.…

Bestandsnummer des Verkäufers 9781441923073

Titel
High-Resolution X-Ray Scattering
Autor
Ullrich Pietsch
Verlag
Springer New York Dez 2011
Erscheinungsjahr
2011
Zustand
Neu
Einband
Taschenbuch
Sprache
Englisch
ISBN-10
1441923071
ISBN-13
9781441923073
Auflage
2. Auflage
Artikelgewicht
645 Gramm
Abmessungen
235x155x24 mm

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