High-k materials in Dynamic Random Access Memories (DRAM): Atomic scale engineering of HfO2-based dielectrics for future DRAM applications

Sprache: Englisch

Verlag: S�dwestdeutscher Verlag f�r Hochschulschriften 2011-12-23, 2011

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Titel
High-k materials in Dynamic Random Access Memories (DRAM): Atomic scale engineering of HfO2-based dielectrics for future DRAM applications
Autor
Piotr Dudek
Verlag
S�dwestdeutscher Verlag f�r Hochschulschriften 2011-12-23
Veröffentlichungsjahr
2011
Zustand
New
Einband
Paperback
Sprache
Englisch
ISBN-10
3838130189
ISBN-13
9783838130187

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