Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond

Sprache: Englisch

Verlag: Springer, 2020

9811500487 / 9789811500480

Serie: Buch 652 von 797 - Springer Theses

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Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond | Guilei Wang | Taschenbuch | Springer Theses | xvi | Englisch | 2020 | Springer | EAN 9789811500480 | Verantwortliche Person für die EU: Springer Verlag GmbH, Tiergartenstr. 17, 69121 Heidelberg, juergen[dot]hartmann[at]springer[dot]com | Anbieter: preigu.

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Titel
Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond
Autor
Guilei Wang
Verlag
Springer
Erscheinungsjahr
2020
Zustand
Neu
Einband
Taschenbuch
Sprache
Englisch
ISBN-10
9811500487
ISBN-13
9789811500480
Artikelgewicht
213 Gramm
Abmessungen
235 x 155 x 8 mm
Serie
Buch 652 von 797: Springer Theses
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