Laser Heat-Mode Lithography : Principle and Methods
Sprache: Englisch
Verlag: Springer, 2019
Serie: Buch 204 von 233 - Springer Series in Materials Science
- Hardcover
- Neu

Anbieter: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, DeutschlandAHA-BUCH GmbH
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Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - This book provides a systematic description and analysis of laser heat-mode lithography, addressing the basic principles, lithography system, manipulation of feature size, grayscale lithography, resist thin films, and pattern transfer, while also presenting typical experimental results and applications. It introduces laser heat-mode lithography, where the resist thin films are essentially an opto-thermal response to the laser beam with changeable wavelength and are not sensitive to laser wavelength. Laser heat-mode lithography techniques greatly simplify production procedures because they require neither a particular light source nor a particular environment; further, there are no pre-baking and post-baking steps required for organic photoresists. The pattern feature size can be either larger or smaller than the laser spot by adjusting the writing strategy. The lithographic feature size can also be arbitrarily tuned from nanoscale to micrometer without changing the laser spot size.Lastly, the line edge roughness can be controlled at a very low value because the etching process is a process of breaking bonds among atoms. The book offers an invaluable reference guide for all advanced undergraduates, graduate students, researchers and engineers working in the fields of nanofabrication, lithography techniques and systems, phase change materials, etc.…
Bestandsnummer des Verkäufers 9789811509421
- Titel
- Laser Heat-Mode Lithography : Principle and Methods
- Autor
- Jingsong Wei
- Verlag
- Springer
- Veröffentlichungsjahr
- 2019
- Zustand
- Neu
- Einband
- Buch
- Sprache
- Englisch
- ISBN-10
- 9811509425
- ISBN-13
- 9789811509421
- Artikelgewicht
- 506 Gramm
- Abmessungen
- 241x160x18 mm
- Serie
- Buch 204 von 233: Springer Series in Materials Science
This book provides a systematic description and analysis of laser heat-mode lithography, addressing the basic principles, lithography system, manipulation of feature size, grayscale lithography, resist thin films, and pattern transfer, while also presenting typical experimental results and applications. It introduces laser heat-mode lithography, where the resist thin films are essentially an opto-thermal response to the laser beam with changeable wavelength and are not sensitive to laser wavelength. Laser heat-mode lithography techniques greatly simplify production procedures because they require neither a particular light source nor a particular environment; further, there are no pre-baking and post-baking steps required for organic photoresists. The pattern feature size can be either larger or smaller than the laser spot by adjusting the writing strategy. The lithographic feature size can also be arbitrarily tuned from nanoscale to micrometer without changing the laser spot size.Lastly, the line edge roughness can be controlled at a very low value because the etching process is a process of breaking bonds among atoms. The book offers an invaluable reference guide for all advanced undergraduates, graduate students, researchers and engineers working in the fields of nanofabrication, lithography techniques and systems, phase change materials, etc.
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Über die Autorin bzw. den Autor
Jingsong Wei received the Ph.D. degree in Chinese Academy of Sciences. He is currently a Professor with Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences. He has published more than 120 articles in professional journals including Applied Physics Letters, Optics Express, Optics Letters, etc. His research interests include miro/nanolithography, super-resolution optics, and optical instruments.
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