Optical Imaging in Projection Microlithography

Sprache: Englisch

Verlag: SPIE Press, US, 2005

0819458295 / 9780819458292

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Here for the first time is an integrated mathematical view of the physics and numerical modeling of optical projection lithography that efficiently covers the full spectrum of the important concepts. Alfred Wong offers rigorous underpinning, clarity in systematic formulation, physical insight into emerging ideas, as well as a system level view of the parameter tolerances required in manufacturing. Readers with a good working knowledge of calculus can follow the step-by-step development, and technologists can gather general concepts and the key equations that result. Even the casual reader will gain a perspective on the key concepts, which will likely help facilitate dialog among technologists.

Bestandsnummer des Verkäufers LU-9780819458292

Titel
Optical Imaging in Projection Microlithography
Autor
Alfred K. Wong
Verlag
SPIE Press, US
Erscheinungsjahr
2005
Zustand
New
Einband
Paperback
Sprache
Englisch
ISBN-10
0819458295
ISBN-13
9780819458292
Auflage
illustrated Edition.
Artikelgewicht
585 Gramm

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