The Physics and Chemistry of SiO2 and the Si-SiO2 Interface 2

Sprache: Englisch

Verlag: Springer US, Springer New York Sep 1993, 1993

0306444194 / 9780306444197

Anbieter: buchversandmimpf2000, Emtmannsberg, BAYE, Deutschlandbuchversandmimpf2000

Verkäufer/-in mit 5 Sternen

Verkäufer:in bei AbeBooks seit 23. Januar 2017

Hardcover

Zustand: Neu

EUR 213,99

EUR 60,00 Versand 
Versand von Deutschland nach USA

Anzahl: 1 verfügbar

In den Warenkorb
30 Tage kostenlose Rückgabe

Artikelbeschreibung des Verkäufers

This item is printed on demand - Print on Demand Titel. Neuware -The first international symposium on the subject 'The Physics and Chemistry of Si02 and the Si-Si02 Interface,' organized in association with the Electrochemical Society, Inc. , was held in Atlanta, Georgia on May 15- 20, 1988. This symposium contained sixty papers and was so successful that the sponsoring divisions decided to schedule it on a regular basis every four years. Thus, the second symposium on 'The Physics and Chemistry of Si02 and the Si02 Interface was held May 18-21, 1992 in St. Louis, Missouri, again sponsored by the Electronics and Dielectrics Science and Technology Divisions of The Electrochemical Society. This volume contains manuscripts of most of the fifty nine papers presented at the 1992 symposium, and is divided into eight chapters - approximating the organization of the symposium. Each chapter is preceded with an introduction by the session organizers. It is appropriate to provide a general assessment of the current status and understanding of the physics and chemistry of Si02 and the Si02 interface before proceeding with a brief overview of the individual chapters. Semiconductor devices have continued to scale down in both horizontal and vertical dimensions. This has resulted in thinner gate and field oxides as well as much closer spacing of individual device features. As a result, surface condition, native oxide composition, and cleaning and impurity effects now provide a much more significant contribution to the properties of oxides and their interfaces.Springer-Verlag GmbH, Tiergartenstr. 17, 69121 Heidelberg 524 pp. Englisch.…

Bestandsnummer des Verkäufers 9780306444197

Titel
The Physics and Chemistry of SiO2 and the Si-SiO2 Interface 2
Autor
C. R. Helms
Verlag
Springer US, Springer New York Sep 1993
Erscheinungsjahr
1993
Zustand
Neu
Einband
Buch
Sprache
Englisch
ISBN-10
0306444194
ISBN-13
9780306444197
Artikelgewicht
1.172 Gramm
Abmessungen
260x183x34 mm

buchversandmimpf2000

Emtmannsberg, BAYE, Deutschland

Verkäufer/-in mit 5 Sternen

Verkäufer:in bei AbeBooks seit 23. Januar 2017

Versandkosten von Deutschland nach USA

Artikel60 bis 60 Werktage60 bis 60 Werktage
Erster ArtikelEUR 60,00EUR 75,00
Die Versandzeiten werden von den Verkäuferinnen und Verkäufern festgelegt. Sie variieren je nach Versanddienstleister und Standort. Sendungen, die den Zoll passieren, können Verzögerungen unterliegen. Eventuell anfallende Abgaben oder Gebühren sind von der Käuferin bzw. dem Käufer zu tragen. Die Verkäuferin bzw. der Verkäufer kann Sie bezüglich zusätzlicher Versandkosten kontaktieren, um einen möglichen Anstieg der Versandkosten für Ihre Artikel auszugleichen.

Zahlungsarten

  • Visa
  • Mastercard
  • American Express
  • Carte Bleue
  • Apple Pay
  • Google Pay
  • PayPal
  • Vorauskasse

Shopbeschreibung

Impressum Thorsten Retsch Buchversand Mimpf2000 Oberölschnitz 16 95517 Emtmannsberg Deutschland Telefon: 09209-2023188 Email: mimpf2000@online.de USt-ID-Nr.: DE 235096871 Wir führen gebrauchte Bücher aus allen Sparten der Literatur

Spezialisierung

Modernes Antiquariat - Bücher von 1960 bis heute

Unternehmensdaten der Verkäuferin bzw. des Verkäufers

buchversandmimpf2000

Deutschland