Titel: Plasma Etching: Fundamentals and Applications (Series on Semiconductor Science and Technology)
Verlag: Oxford University Press
Erscheinungsjahr: 1998
Sprache: Englisch
ISBN-10: 019856287X
ISBN-13: 9780198562870
Einband: Hardcover
Zustand: New

�ber diesen Titel

Inhaltsangabe

The focus of this book is the remarkable advances in understanding of low pressure RF (radio frequency) glow discharges. A basic analytical theory and plasma physics are explained. Plasma diagnostics are also covered before the practicalities of etcher use are explored.

�ber die Autorin bzw. den Autor

Professor Minoru Sugawara, Hachinohe Institute of Technology, Hachinohe-city, Aomori 031, Japan. Fax: (0) 178 25 1430

��ber diesen Titel� kann sich auf eine andere Ausgabe dieses Titels beziehen.

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