Reactive Sputter Deposition

Sprache: Englisch

Verlag: Springer Berlin Heidelberg, Springer Berlin Heidelberg Apr 2008, 2008

3540766626 / 9783540766629

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This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -The most straightforwardmethod to change the surface properties of a ma- rial is to deposit a thin lm or coating on it. Hence, it is not surprising that an overwhelming amount of scienti c and technical papers is published each year on this topic. Sputter deposition is one of the many so-called physical vapour deposition (PVD) techniques. In most cases, sputter deposition uses a magnetically enhanced glow discharge or magnetron discharge to produce the ions which bombard and sputter the cathode material. In the rst chapter of this book (Chap. 1), the details of the sputter process are discussed. Essential to sustain the discharge is the electron emission during ion bombardment. Indeed, the emitted electrons are accelerated from the target and can ionize gas atoms. The formed ions bombard again the target completing the s- taining process. A complete chapter is assigned to this process to highlight its importance (Chap. 2). Although the sustaining process can be described quite straightforward, a complete understanding of the magnetron discharge and the in uence of di erent parameters on the discharge characteristics is onlypossiblebymodelling(seeChap.3).Withthesethreechapters,thereader should be able to form an idea of the target and plasma processes occurring during a DC magnetron discharge. 592 pp. Englisch.…

Bestandsnummer des Verkäufers 9783540766629

Titel
Reactive Sputter Deposition
Autor
Stijn Mahieu
Verlag
Springer Berlin Heidelberg, Springer Berlin Heidelberg Apr 2008
Erscheinungsjahr
2008
Zustand
Neu
Einband
Buch
Sprache
Englisch
ISBN-10
3540766626
ISBN-13
9783540766629
Artikelgewicht
1.153 Gramm
Abmessungen
241x160x42 mm

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