Reactive Sputter Deposition

Sprache: Englisch

Verlag: Springer Berlin Heidelberg, Springer Berlin Heidelberg Nov 2010, 2010

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This item is printed on demand - Print on Demand Titel. Neuware -The most straightforwardmethod to change the surface properties of a ma- rial is to deposit a thin lm or coating on it. Hence, it is not surprising that an overwhelming amount of scienti c and technical papers is published each year on this topic. Sputter deposition is one of the many so-called physical vapour deposition (PVD) techniques. In most cases, sputter deposition uses a magnetically enhanced glow discharge or magnetron discharge to produce the ions which bombard and sputter the cathode material. In the rst chapter of this book (Chap. 1), the details of the sputter process are discussed. Essential to sustain the discharge is the electron emission during ion bombardment. Indeed, the emitted electrons are accelerated from the target and can ionize gas atoms. The formed ions bombard again the target completing the s- taining process. A complete chapter is assigned to this process to highlight its importance (Chap. 2). Although the sustaining process can be described quite straightforward, a complete understanding of the magnetron discharge and the in uence of di erent parameters on the discharge characteristics is onlypossiblebymodelling(seeChap.3).Withthesethreechapters,thereader should be able to form an idea of the target and plasma processes occurring during a DC magnetron discharge.Springer Verlag GmbH, Tiergartenstr. 17, 69121 Heidelberg 592 pp. Englisch. …

Bestandsnummer des Verkäufers 9783642095368

Titel
Reactive Sputter Deposition
Autor
Stijn Mahieu
Verlag
Springer Berlin Heidelberg, Springer Berlin Heidelberg Nov 2010
Erscheinungsjahr
2010
Zustand
Neu
Einband
Taschenbuch
Sprache
Englisch
ISBN-10
3642095364
ISBN-13
9783642095368
Artikelgewicht
885 Gramm
Abmessungen
235x155x32 mm

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