Sputter Cleaning : Plasma, Cleaning, Solid, Physics, Vacuum, Technology

Sprache: Englisch

Verlag: Omniscriptum, 2026

6139044987 / 9786139044986

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nach der Bestellung gedruckt Neuware - Printed after ordering - Please note that the content of this book primarily consists of articles available from Wikipedia or other free sources online. Sputter cleaning is the cleaning of a solid surface in a vacuum by using physical sputtering of the surface. Sputter cleaning is often used in vacuum deposition and ion plating. In 1955 Farnsworth, Schlier, George, and Burger reported using sputter cleaning in an ultra-high-vacuum system to prepare ultra-clean surfaces for low-energy electron-diffraction (LEED) studies. Sputter cleaning became an integral part of the ion plating process. Sputter cleaning has some potential problems such as overheating, gas incorporation in the surface region, bombardment (radiation) damage in the surface region, and the roughening of the surface, particularly if over done. It is important to have a clean plasma in order to not continually recontaminate the surface during sputter cleaning. Redeposition of sputtered material on the substrate can also give problems, especially at high sputtering pressures.

Bestandsnummer des Verkäufers 9786139044986

Titel
Sputter Cleaning : Plasma, Cleaning, Solid, Physics, Vacuum, Technology
Autor
Blossom Meghan Jessalyn
Verlag
Omniscriptum
Veröffentlichungsjahr
2026
Zustand
Neu
Einband
Taschenbuch
Sprache
Englisch
ISBN-10
6139044987
ISBN-13
9786139044986
Artikelgewicht
125 Gramm
Abmessungen
220x150x5 mm

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