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CMOS Gate-Stack Scaling ? Materials, Interfaces and Reliability Implications: Volume 1155 (MRS Proceedings)
Sprache: Englisch
Verlag: Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 1107408326 ISBN 13: 9781107408326
Anbieter: California Books, Miami, FL, USA
Verkäuferbewertung 4 von 5 Sternen
Zustand: New.
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Integration of functional oxides with semiconductors.
Buch 13 von 68: SpringerBriefs in MaterialsSprache: Englisch
Verlag: New York/Heidelberg/Dordrecht, Springer., 2014
ISBN 10: 1461493196 ISBN 13: 9781461493198
Anbieter: Universitätsbuchhandlung Herta Hold GmbH, Berlin, Deutschland
Verbandsmitglied: GIAQ ILAB VDA
Verkäuferbewertung 4 von 5 Sternen
24 cm. X, 278 p. Hardcover. Versand aus Deutschland / We dispatch from Germany via Air Mail. Einband bestoßen, daher Mängelexemplar gestempelt, sonst sehr guter Zustand. Imperfect copy due to slightly bumped cover, apart from this in very good condition. Stamped. Sprache: Englisch.
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CMOS Gate-Stack Scaling ? Materials, Interfaces and Reliability Implications: Volume 1155 (MRS Proceedings)
Sprache: Englisch
Verlag: Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 1107408326 ISBN 13: 9781107408326
Anbieter: Ria Christie Collections, Uxbridge, Vereinigtes Königreich
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
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Cmos GateStack Scaling - Materials, Interfaces and Reliability Implications: Volume 1155 (MRS Proceedings)
Sprache: Englisch
Verlag: Cambridge University Press 2014-06-05, 2014
ISBN 10: 1107408326 ISBN 13: 9781107408326
Anbieter: Chiron Media, Wallingford, Vereinigtes Königreich
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
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Cmos GateStack Scaling - Materials, Interfaces and Reliability Implications: Volume 1155 (MRS Proceedings)
Sprache: Englisch
Verlag: Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 1107408326 ISBN 13: 9781107408326
Anbieter: Kennys Bookshop and Art Galleries Ltd., Galway, GY, Irland
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
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Cmos Gate-Stack Scaling Materials, Interfaces and Reliability Implications
Sprache: Englisch
Verlag: Cambridge University Press CUP, 2014
ISBN 10: 1107408326 ISBN 13: 9781107408326
Zustand: New. pp. 194.
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Cmos GateStack Scaling - Materials, Interfaces and Reliability Implications: Volume 1155 (MRS Proceedings)
Sprache: Englisch
Verlag: Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 1107408326 ISBN 13: 9781107408326
Anbieter: Kennys Bookstore, Olney, MD, USA
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
Zustand: New.
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Integration Of Functional Oxides With Semiconductors
Buch 13 von 68: SpringerBriefs in MaterialsAnbieter: Romtrade Corp., STERLING HEIGHTS, MI, USA
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Zustand: New. This is a Brand-new US Edition. This Item may be shipped from US or any other country as we have multiple locations worldwide.
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Zustand: Used. pp. 290.
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Integration of Functional Oxides with Semiconductors
Buch 13 von 68: SpringerBriefs in MaterialsAnbieter: Majestic Books, Hounslow, Vereinigtes Königreich
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Integration of Functional Oxides with Semiconductors
Buch 13 von 68: SpringerBriefs in MaterialsAnbieter: Biblios, Frankfurt am main, HESSE, Deutschland
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Zustand: Used. pp. 290.
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CMOS Gate-Stack Scaling Materials, Interfaces and Reliability Implications : Volume 1155
Sprache: Englisch
Verlag: Cambridge University Press, 2014
ISBN 10: 1107408326 ISBN 13: 9781107408326
Anbieter: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Deutschland
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
Taschenbuch. Zustand: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - To address the increasing demands of device scaling, new materials are being introduced into conventional Si CMOS processing at an unprecedented rate. Presentations collected here focus on understanding, from a chemistry and materials perspective, the mechanism of interface formation and defects at interfaces, for both conventional Si and alternative channel (Ge or III-V) systems. Several papers address reliability concerns for high-k/metal gate (basic physical models, charge trapping, etc.), while others cover characterization of the thin films and interfaces which comprise the gate stack. Topics include: advanced Si-based gate stacks; and alternate channel materials.
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Cmos Gate-stack Scaling Materials, Interfaces and Reliability Implications : Symposium Held April 14-16, 2009, San Francisco, California, U.s.a.
Sprache: Englisch
Verlag: Cambridge University Press, 2009
ISBN 10: 1605111287 ISBN 13: 9781605111285
Anbieter: GreatBookPrices, Columbia, MD, USA
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
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CMOS Gate-Stack Scaling ? Materials, Interfaces and Reliability Implications: Volume 1155 (MRS Proceedings)
Sprache: Englisch
Verlag: Cambridge University Press, 2009
ISBN 10: 1605111287 ISBN 13: 9781605111285
Anbieter: California Books, Miami, FL, USA
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Integration of Functional Oxides with Semiconductors (Springerbriefs in Materials)
Buch 13 von 68: SpringerBriefs in MaterialsAnbieter: Ria Christie Collections, Uxbridge, Vereinigtes Königreich
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CMOS Gate-Stack Scaling ? Materials, Interfaces and Reliability Implications: Volume 1155 (MRS Proceedings)
Sprache: Englisch
Verlag: Cambridge University Press, 2009
ISBN 10: 1605111287 ISBN 13: 9781605111285
Anbieter: Ria Christie Collections, Uxbridge, Vereinigtes Königreich
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Cmos Gate-stack Scaling Materials, Interfaces and Reliability Implications : Symposium Held April 14-16, 2009, San Francisco, California, U.s.a.
Sprache: Englisch
Verlag: Cambridge University Press, 2009
ISBN 10: 1605111287 ISBN 13: 9781605111285
Anbieter: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Vereinigtes Königreich
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Cmos Gate-stack Scaling - Materials, Interfaces and Reliability Implications: Volume 1155
Sprache: Englisch
Verlag: Materials Research Society, 2009
ISBN 10: 1605111287 ISBN 13: 9781605111285
Anbieter: Kennys Bookshop and Art Galleries Ltd., Galway, GY, Irland
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In den WarenkorbZustand: New. The MRS Symposium Proceeding series is an internationally recognised reference suitable for researchers and practitioners. Editor(s): Demkov, Alexander A. (Freescale Semiconductor Inc., Austin, Texas); Taylor, Bill; Harris, H. Rusty; Butterbaugh, Jeffery W.; Rachmady, Willy. Series: MRS Proceedings. Num Pages: 194 pages, Illustrations. BIC Classification: TGM. Category: (U) Tertiary Education (US: College). Dimension: 228 x 152 x 13. Weight in Grams: 430. . 2009. Hardback. . . . .
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Integration of Functional Oxides with Semiconductors (Springerbriefs in Materials)
Buch 13 von 68: SpringerBriefs in MaterialsAnbieter: Mispah books, Redhill, SURRE, Vereinigtes Königreich
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Materials Fundamentals of Gate Dielectrics
Anbieter: Phatpocket Limited, Waltham Abbey, HERTS, Vereinigtes Königreich
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Taschenbuch. Zustand: Neu. Integration of Functional Oxides with Semiconductors | Alexander A. Demkov (u. a.) | Taschenbuch | x | Englisch | 2016 | Springer | EAN 9781493941698 | Verantwortliche Person für die EU: Springer Verlag GmbH, Tiergartenstr. 17, 69121 Heidelberg, juergen[dot]hartmann[at]springer[dot]com | Anbieter: preigu.
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Cmos Gate-Stack Scaling-- Materials, Interfaces and Reliability Implications
Sprache: Englisch
Verlag: Materials Research Society, 2009
ISBN 10: 1605111287 ISBN 13: 9781605111285
Zustand: New. pp. viii + 179.
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Integration of Functional Oxides with Semiconductors (Springerbriefs in Materials)
Buch 13 von 68: SpringerBriefs in MaterialsAnbieter: Revaluation Books, Exeter, Vereinigtes Königreich
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
EUR 159,55
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In den WarenkorbPaperback. Zustand: Brand New. reprint edition. 288 pages. 9.25x6.10x0.68 inches. In Stock.
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Integration of Functional Oxides With Semiconductors
Buch 13 von 68: SpringerBriefs in MaterialsAnbieter: Revaluation Books, Exeter, Vereinigtes Königreich
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
EUR 158,45
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In den WarenkorbHardcover. Zustand: Brand New. 278 pages. 9.75x6.50x0.75 inches. In Stock.
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Cmos Gate-stack Scaling Materials, Interfaces and Reliability Implications : Symposium Held April 14-16, 2009, San Francisco, California, U.s.a.
Sprache: Englisch
Verlag: Cambridge University Press, 2009
ISBN 10: 1605111287 ISBN 13: 9781605111285
Anbieter: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Vereinigtes Königreich
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EUR 159,03
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Cmos Gate-stack Scaling Materials, Interfaces and Reliability Implications: Symposium Held April 14-16, 2009, San Francisco, California, U.s.a.: Vol 1155
Sprache: Englisch
Verlag: Materials Research Society, 2009
ISBN 10: 1605111287 ISBN 13: 9781605111285
Anbieter: Revaluation Books, Exeter, Vereinigtes Königreich
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
EUR 165,75
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In den WarenkorbHardcover. Zustand: Brand New. 194 pages. 9.13x6.30x0.79 inches. In Stock.
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Materials Fundamentals of Gate Dielectrics
Anbieter: Ria Christie Collections, Uxbridge, Vereinigtes Königreich
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
EUR 164,83
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In den WarenkorbZustand: New. In.
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CMOS Gate-Stack Scaling - Materials, Interfaces and Reliability Implications: Volume 1155 (MRS Proceedings)
Sprache: Englisch
Verlag: Cambridge University Press, 2009
ISBN 10: 1605111287 ISBN 13: 9781605111285
Anbieter: Mispah books, Redhill, SURRE, Vereinigtes Königreich
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EUR 149,47
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Cmos Gate-stack Scaling - Materials, Interfaces and Reliability Implications: Volume 1155
Sprache: Englisch
Verlag: Materials Research Society, 2009
ISBN 10: 1605111287 ISBN 13: 9781605111285
Anbieter: Kennys Bookstore, Olney, MD, USA
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In den WarenkorbZustand: New. The MRS Symposium Proceeding series is an internationally recognised reference suitable for researchers and practitioners. Editor(s): Demkov, Alexander A. (Freescale Semiconductor Inc., Austin, Texas); Taylor, Bill; Harris, H. Rusty; Butterbaugh, Jeffery W.; Rachmady, Willy. Series: MRS Proceedings. Num Pages: 194 pages, Illustrations. BIC Classification: TGM. Category: (U) Tertiary Education (US: College). Dimension: 228 x 152 x 13. Weight in Grams: 430. . 2009. Hardback. . . . . Books ship from the US and Ireland.
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Cmos Gate-stack Scaling Materials, Interfaces and Reliability Implications : Symposium Held April 14-16, 2009, San Francisco, California, U.s.a.
Sprache: Englisch
Verlag: Cambridge University Press, 2009
ISBN 10: 1605111287 ISBN 13: 9781605111285
Anbieter: GreatBookPrices, Columbia, MD, USA
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