Demkov (122 Ergebnisse)
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Verlag: New York/Heidelberg/Dordrecht, Springer., 2014
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Verlag: Oxford, Pergamon Press, ,, 1963
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In den WarenkorbX/157 S./pp., Originalpappband (publisher's cardboard covers), Bibliotheksexemplar in sehr gutem Zustand / exlibrary in excellent condition (Stempel auf Titel / title stamped, Rückenschildchen / lettering pannel to the spine, Block sehr gut / contents fine, keine Unterstreichungen oder Anstreichungen / no underlining or remarks, nicht in Folie eingeschlagen / not wrapped up in foil), Sprache: englisch.…
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Verlag: Macmillan Company, NY, 1963
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Sprache: Englisch
Verlag: Springer, 2014
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Verlag: Springer New York, 2016
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Zustand: Very Good. : Este libro trata sobre la integración de óxidos funcionales con semiconductores. Cubre temas como los semiconductores de óxido metálico, la epitaxia y el recubrimiento de óxido. Publicado por Springer New York en 2016, el libro tiene 278 páginas y está escrito en inglés. EAN: 9781493941698 Tipo: Libros Categoría: Tecnología|Ciencias Título: Integration of Functional Oxides with Semiconductors Autor: Alexander A. Demkov| Agham B. Posadas Editorial: Springer New York Idioma: en Páginas: 278 Formato: Tapa blanda Año de publicación: 2016. …
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Zustand: New. pp. 300.
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Taschenbuch. Zustand: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - To address the increasing demands of device scaling, new materials are being introduced into conventional Si CMOS processing at an unprecedented rate. Presentations collected here focus on understanding, from a chemistry and materials perspective, the mechanism of interface formation and defects at interfaces, for both conventional Si and alternative channel (Ge or III-V) systems. Several papers address reliability concerns for high-k/metal gate (basic physical models, charge trapping, etc.), while others cover characterization of the thin films and interfaces which comprise the gate stack. Topics include: advanced Si-based gate stacks; and alternate channel materials.…
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Paperback. Zustand: Brand New. reprint edition. 296 pages. 10.00x7.00x0.68 inches. In Stock.
Sprache: Englisch
Verlag: Springer, 2014
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Zustand: Used. pp. 290.
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Verlag: Springer, 2014
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Zustand: Used. pp. 290 146 Illus. (113 Col.).
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Zustand: New. pp. 296.
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Verlag: Springer, 2014
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Zustand: Used. pp. 290.
Cmos Gate-stack Scaling Materials, Interfaces and Reliability Implications : Symposium Held April 14-16, 2009, San Francisco, California, U.s.a.
Butterbaugh, J. (EDT); Demkov, a (EDT); Harris, R. (EDT); Rachmady, W. (EDT); Taylor, B. (EDT)
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Cmos Gate-stack Scaling - Materials, Interfaces and Reliability Implications: Volume 1155
. Ed(s): Demkov, Alexander A. (Freescale Semiconductor Inc., Austin, Texas); Taylor, Bill; Harris, H. Rusty; Butterbaugh, Jeffery W.; Rachmady, Willy
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Anbieter: Kennys Bookshop and Art Galleries Ltd., Galway, GY, IrlandKennys Bookshop and Art Galleries Ltd.
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Zustand: New. The MRS Symposium Proceeding series is an internationally recognised reference suitable for researchers and practitioners. Editor(s): Demkov, Alexander A. (Freescale Semiconductor Inc., Austin, Texas); Taylor, Bill; Harris, H. Rusty; Butterbaugh, Jeffery W.; Rachmady, Willy. Series: MRS Proceedings. Num Pages: 194 pages, Illustrations. BIC Classification: TGM. Category: (U) Tertiary Education (US: College). Dimension: 228 x 152 x 13. Weight in Grams: 430. . 2009. Hardback. . . . . …
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Zustand: New. 2023. Hardback. . . . . .
