Weber eicke dabrowski jarek (21 Ergebnisse)

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Sprache: Englisch
Verlag: Berlin ; Heidelberg ; New York ; Hong Kong ; London ; Milan ; Paris ; Tokyo : Springer 2004
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Taschenbuch. Zustand: Neu. Predictive Simulation of Semiconductor Processing | Status and Challenges | Eicke R. Weber (u. a.) | Taschenbuch | Englisch | 2010 | Springer-Verlag GmbH | EAN 9783642058042 | Verantwortliche Person für die EU: Springer Heidelberg, Tiergartenstr. 17, 69121 Heidelberg, buchhandel-buch[at]springer[dot]co…m | Anbieter: preigu.

Sprache: Englisch
Verlag: Springer Berlin Heidelberg, Springer Berlin Heidelberg 2010
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Taschenbuch. Zustand: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - Predictive Simulation of Semiconductor Processingenables researchers and developersto extend the scaling range of semiconductor devices beyond the parameter range of empirical research. It requires a thorough understanding of the basic mechanisms emp…loyed in device fabrication, such as diffusion, ion implantation, epitaxy, defect formation and annealing, and contamination. This book presents an in-depth discussion of our current understanding of key processes and identifies areas that require further work in order to achieve the goal of a comprehensive, predictive process simulation tool.

Sprache: Englisch
Verlag: Springer Berlin Heidelberg, Springer Berlin Heidelberg 2004
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Gebunden. Zustand: New. Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. Detailed and up-to-date explanation of the key processes in semiconductor technology and their computational simulationJ. Dabrowski: Born in Warsaw, Poland, Sept. 29, 1958. PhD, Institute of Physics of the Pol…ish Academy of Science (IF PAN), W.

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Verlag: Springer Berlin Heidelberg, Springer Berlin Heidelberg Dez 2010 2010
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Taschenbuch. Zustand: Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -Predictive Simulation of Semiconductor Processingenables researchers and developersto extend the scaling range of semiconductor devices beyond the parameter range of empirical research. It requires a thorough understanding of the basi…c mechanisms employed in device fabrication, such as diffusion, ion implantation, epitaxy, defect formation and annealing, and contamination. This book presents an in-depth discussion of our current understanding of key processes and identifies areas that require further work in order to achieve the goal of a comprehensive, predictive process simulation tool. 516 pp. Englisch.

Sprache: Englisch
Verlag: Springer Berlin Heidelberg, Springer Berlin Heidelberg Mai 2004 2004
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Verlag: Springer Berlin Heidelberg, Springer Berlin Heidelberg Dez 2010 2010
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Sprache: Englisch
Verlag: Springer Berlin Heidelberg, Springer Berlin Heidelberg Mai 2004 2004
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