Chemical processing ceramics (38 Ergebnisse)
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Paperback. Zustand: New. This book focuses on the creative use of chemistry in the fabrication of a variety of oxide and non-oxide materials which are likely to play a crucial role in the development of the next generation of microelectronics devices. It includes inorganic precursor chemistry, gas-phase and solid-state chemistry…, materials science, chemical physics and chemical engineering. Highlights include the deposition of high-k dielectric gate oxides, ferroelectric oxide films for infrared and memory applications, low-k dielectrics, TiN and TaN diffusion barriers, and fresh precursors for III-V nitrides. The emphasis is on chemical methods for the controlled deposition of thin films, for which chemical vapor deposition (CVD) has proven to be a useful and versatile technique. Of particular interest is the use of liquid-injection MOCVD for the deposition of oxide multilayers and superlattices. Solution deposition techniques such as sol-gel, metalorganic decomposition (MOD), hydrothermal processing are also prominently featured. Topics include: CVD of oxide ceramics; CVD of nonoxide ceramics; solution deposition of electronic ceramics; alternative chemical processing methods and characterization of electronic ceramics.
Chemical Processing of Dielectrics, Insulators and Electronic Ceramics: Volume 606 (MRS Proceedings)
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Chemical Processing of Dielectrics, Insulators and Electronic Ceramics: Volume 606 (MRS Proceedings)
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Chemical Processing of Dielectrics, Insulators and Electronic Ceramics: Volume 606 (MRS Proceedings)
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Verlag: Marcel Dekker., New York., 1994
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Decorated hard cover. First edition. Full number line. Illustrated. Important reference work. Very scarce in this condition. Inscribed by the author "To my Good Friends, Iraj and Carol, Hoping for many more years of friendship and stimulating conversatins, All the best Edward J. Pope". Fine copy. 554 pps.
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Zustand: Très bon. Chemical Processing of Ceramics | Lee, Burtrand Insung/ Pope, Edward J. A. | Marcel Dekker Inc, 1994. In-8° cartonné, 553 pages. Couverture propre . Dos solide. Intérieur frais sans soulignage ou annotation. Exemplaire de bibliothèque : petit code barre en pied de 1re de couv., cotation au dos, rares et discre…ts petits tampons à l'intérieur de l'ouvrage. Très bon état général pour cet ouvrage. [Ba 68] Pour les expéditions internationales, nous consulter au préalable pour l ajustement des frais de port qui seront peut-être revus à la baisse/ For international shipments, please contact us in advance to adjust shipping costs. |.
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Paperback. Zustand: New. This book focuses on the creative use of chemistry in the fabrication of a variety of oxide and non-oxide materials which are likely to play a crucial role in the development of the next generation of microelectronics devices. It includes inorganic precursor chemistry, gas-phase and solid-state chemistry…, materials science, chemical physics and chemical engineering. Highlights include the deposition of high-k dielectric gate oxides, ferroelectric oxide films for infrared and memory applications, low-k dielectrics, TiN and TaN diffusion barriers, and fresh precursors for III-V nitrides. The emphasis is on chemical methods for the controlled deposition of thin films, for which chemical vapor deposition (CVD) has proven to be a useful and versatile technique. Of particular interest is the use of liquid-injection MOCVD for the deposition of oxide multilayers and superlattices. Solution deposition techniques such as sol-gel, metalorganic decomposition (MOD), hydrothermal processing are also prominently featured. Topics include: CVD of oxide ceramics; CVD of nonoxide ceramics; solution deposition of electronic ceramics; alternative chemical processing methods and characterization of electronic ceramics.
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Taschenbuch. Zustand: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - This book focuses on the creative use of chemistry in the fabrication of a variety of oxide and non-oxide materials which are likely to play a crucial role in the development of the next generation of microelectronics devices. It includes inorganic p…recursor chemistry, gas-phase and solid-state chemistry, materials science, chemical physics and chemical engineering. Highlights include the deposition of high-k dielectric gate oxides, ferroelectric oxide films for infrared and memory applications, low-k dielectrics, TiN and TaN diffusion barriers, and fresh precursors for III-V nitrides. The emphasis is on chemical methods for the controlled deposition of thin films, for which chemical vapor deposition (CVD) has proven to be a useful and versatile technique. Of particular interest is the use of liquid-injection MOCVD for the deposition of oxide multilayers and superlattices. Solution deposition techniques such as sol-gel, metalorganic decomposition (MOD), hydrothermal processing are also prominently featured. Topics include: CVD of oxide ceramics; CVD of nonoxide ceramics; solution deposition of electronic ceramics; alternative chemical processing methods and characterization of electronic ceramics.
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Chemical Processing of Dielectrics, Insulators and Electronic Ceramics: Volume 606
Edited by Anthony C. Jones , Janice Veteran , Donald Mullin , Reid Cooper , Sanjeev Kaushal
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