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Materials and Processes for Next Generation Lithography (Frontiers of Nanoscience): Volume 11
Buch 11 von 21: ISSNAnbieter: Chiron Media, Wallingford, Vereinigtes Königreich
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Materials and Processes for Next Generation Lithography (Frontiers of Nanoscience)
Buch 11 von 21: ISSNAnbieter: Majestic Books, Hounslow, Vereinigtes Königreich
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Materials and Processes for Next Generation Lithography
Buch 11 von 21: ISSNAnbieter: GreatBookPrices, Columbia, MD, USA
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
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Materials and Processes for Next Generation Lithography (Frontiers of Nanoscience)
Buch 11 von 21: ISSNAnbieter: Biblios, Frankfurt am main, HESSE, Deutschland
Verkäuferbewertung 4 von 5 Sternen
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Materials and Processes for Next Generation Lithography (Volume 11) (Frontiers of Nanoscience, Volume 11)
Buch 11 von 21: ISSNAnbieter: Ria Christie Collections, Uxbridge, Vereinigtes Königreich
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Materials and Processes for Next Generation Lithography
Buch 11 von 21: ISSNAnbieter: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Vereinigtes Königreich
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Materials and Processes for Next Generation Lithography
Buch 11 von 21: ISSNAnbieter: GreatBookPrices, Columbia, MD, USA
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Materials and Processes for Next Generation Lithography
Buch 11 von 21: ISSNAnbieter: GreatBookPricesUK, Woodford Green, Vereinigtes Königreich
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Materials and Processes for Next Generation Lithography
Buch 11 von 21: ISSNSprache: Englisch
Verlag: Elsevier Health Sciences, GB, 2016
ISBN 10: 0081003544 ISBN 13: 9780081003541
Anbieter: Rarewaves.com USA, London, LONDO, Vereinigtes Königreich
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In den WarenkorbHardback. Zustand: New. As the requirements of the semiconductor industry have become more demanding in terms of resolution and speed it has been necessary to push photoresist materials far beyond the capabilities previously envisioned. Currently there is significant worldwide research effort in to so called Next Generation Lithography techniques such as EUV lithography and multibeam electron beam lithography. These developments in both the industrial and the academic lithography arenas have led to the proliferation of numerous novel approaches to resist chemistry and ingenious extensions of traditional photopolymers. Currently most texts in this area focus on either lithography with perhaps one or two chapters on resists, or on traditional resist materials with relatively little consideration of new approaches. This book therefore aims to bring together the worlds foremost resist development scientists from the various community to produce in one place a definitive description of the many approaches to lithography fabrication.
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Robinson, A: Materials and Processes for Next Generation Lit
Buch 11 von 21: ISSNSprache: Englisch
Verlag: Elsevier Science & Technology, 2016
ISBN 10: 0081003544 ISBN 13: 9780081003541
EUR 206,12
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Materials and Processes for Next Generation Lithography
Buch 11 von 21: ISSNSprache: Englisch
Verlag: Elsevier Health Sciences, GB, 2016
ISBN 10: 0081003544 ISBN 13: 9780081003541
Anbieter: Rarewaves.com UK, London, Vereinigtes Königreich
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
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In den WarenkorbHardback. Zustand: New. As the requirements of the semiconductor industry have become more demanding in terms of resolution and speed it has been necessary to push photoresist materials far beyond the capabilities previously envisioned. Currently there is significant worldwide research effort in to so called Next Generation Lithography techniques such as EUV lithography and multibeam electron beam lithography. These developments in both the industrial and the academic lithography arenas have led to the proliferation of numerous novel approaches to resist chemistry and ingenious extensions of traditional photopolymers. Currently most texts in this area focus on either lithography with perhaps one or two chapters on resists, or on traditional resist materials with relatively little consideration of new approaches. This book therefore aims to bring together the worlds foremost resist development scientists from the various community to produce in one place a definitive description of the many approaches to lithography fabrication.
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Materials and Processes for Next Generation Lithography
Buch 11 von 21: ISSNSprache: Englisch
Verlag: Elsevier Science & Technology Nov 2016, 2016
ISBN 10: 0081003544 ISBN 13: 9780081003541
Anbieter: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Deutschland
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Materials and Processes for Next Generation Lithography: Volume 11
Buch 11 von 21: ISSNAnbieter: Brook Bookstore On Demand, Napoli, NA, Italien
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EUR 125,74
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Materials and Processes for Next Generation Lithography
Buch 11 von 21: ISSNAnbieter: Revaluation Books, Exeter, Vereinigtes Königreich
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