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Inhaltsangabe
This book focusses on the spacer engineering aspects of novel MOS-based device–circuit co-design in sub-20nm technology node, its process complexity, variability, and reliability issues. It comprehensively explores the FinFET/tri-gate architectures with their circuit/SRAM suitability and tolerance to random statistical variations.
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Über die Autorin bzw. den Autor
Sudeb Dasgupta, Brajesh Kumar Kaushik, Pankaj Kumar Pal
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Spacer Engineered FinFET Architectures
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Zustand: New. Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. Brajesh Kumar Kaushik received Ph.D. degree in 2007 from Indian Institute of Technology Roorkee, India. He served Vinytics Peripherals Pvt. Ltd., Delhi, as Research and Development Engineer in microprocessor, microcontroller, and DSP (Di. Bestandsnummer des Verkäufers 869724880
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Spacer Engineered Finfet Architectures: High-performance Digital Circuit Applications
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Spacer Engineered FinFET Architectures : High-Performance Digital Circuit Applications
Verlag:
Taylor & Francis Inc Jun 2017, 2017
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Spacer Engineered FinFET Architectures: High-Performance Digital Circuit Applications
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Spacer Engineered FinFET Architectures: High-Performance Digital Circuit Applications
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