Flux Profile Modeling using Monte Carlo Simulation

Sprache: Englisch

Verlag: LAP LAMBERT Academic Publishing Jun 2010, 2010

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This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -Molecular Beam Epitaxy (MBE) is a process by which semiconductor films are grown on the substrate by physical vapor deposition of the source material in an ultra high vacuum environment. Spatial variations in flux are a result of the shape of the crucible and the geometry of the growth chamber. A process simulation tool for MBE based on a phenomenological model is proposed and elaborated. The tool can be used in industry to simulate the effusion and deposition of molecular beams by taking into account different parameters that influence the process. Additionally, it can generate deposition profiles created by effusing flux species, on the platen containing the wafers. 104 pp. Englisch.

Titel
Flux Profile Modeling using Monte Carlo Simulation
Autor
Ramprasad Vijayagopal
Verlag
LAP LAMBERT Academic Publishing Jun 2010
Erscheinungsjahr
2010
Zustand
Neu
Einband
Taschenbuch
Sprache
Englisch
ISBN-10
3838369386
ISBN-13
9783838369389
Artikelgewicht
173 Gramm
Abmessungen
220x150x7 mm

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