Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond (Springer Theses)

Buch 652 von 797: Springer Theses

Wang, Guilei

ISBN 10: 9811500487 ISBN 13: 9789811500480
Verlag: Springer, 2020
Sprache: Englisch
Zustand: Neu Softcover

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