Photoresist Technology in Microsystems: Principles, Processes and Applications

Sprache: Englisch

Verlag: Springer, 2025

9819516056 / 9789819516056

Serie: Buch 70 von 72 - Springer Series in Advanced Microelectronics

Anbieter: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, DeutschlandAHA-BUCH GmbH

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Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - This book presents a comprehensive overview of recent advances in photoresist technology, a cornerstone of modern microfabrication. Photoresists enable the precise patterning essential for creating microelectronic devices, MEMS, biomedical systems, and photonic components. As the demand for smaller, faster, and more efficient microsystems grows, the role of photoresists in achieving high-resolution patterning and complex 3D structures has become increasingly critical. However, despite its importance, there is a lack of comprehensive resources that bridge the gap between the fundamental principles of photoresist chemistry, advanced fabrication techniques, and their diverse applications. This book addresses this gap by providing a unified and up to-date exploration of photoresist technology, making it a timely and essential contribution to the field. The book balances theoretical depth with practical insights, making it accessible to readers with varying levels of expertise. The book is designed to cater to a broad audience, from students and researchers to industry professionals. A unique feature of this book is its emphasis on the interplay between material properties, processing techniques, and application-specific requirements.…

Bestandsnummer des Verkäufers 9789819516056

Titel
Photoresist Technology in Microsystems: Principles, Processes and Applications
Autor
Kaiying Wang
Verlag
Springer
Erscheinungsjahr
2025
Zustand
Neu
Einband
Buch
Sprache
Englisch
ISBN-10
9819516056
ISBN-13
9789819516056
Artikelgewicht
499 Gramm
Abmessungen
241x160x16 mm
Serie
Buch 70 von 72: Springer Series in Advanced Microelectronics

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