Titel: Spacer Engineered FinFET Architectures High-Performance Digital Circuit Applications
Verlag: Taylor & Francis Group
Erscheinungsjahr: 2017
Sprache: Englisch
ISBN-10: 1498783597
ISBN-13: 9781498783590
Einband: Hardcover
Zustand: New

�ber diesen Titel

Inhaltsangabe

This book focusses on the spacer engineering aspects of novel MOS-based device–circuit co-design in sub-20nm technology node, its process complexity, variability, and reliability issues. It comprehensively explores the FinFET/tri-gate architectures with their circuit/SRAM suitability and tolerance to random statistical variations.

�ber die Autorin bzw. den Autor

Sudeb Dasgupta, Brajesh Kumar Kaushik, Pankaj Kumar Pal

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