Dabrowski jarek (31 Ergebnisse)
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Taschenbuch. Zustand: Neu. Predictive Simulation of Semiconductor Processing | Status and Challenges | Eicke R. Weber (u. a.) | Taschenbuch | Englisch | 2010 | Springer-Verlag GmbH | EAN 9783642058042 | Verantwortliche Person für die EU: Springer Heidelberg, Tiergartenstr. 17, 69121 Heidelberg, buchhandel-buch[at]springer[dot]co…m | Anbieter: preigu.
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Taschenbuch. Zustand: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - Predictive Simulation of Semiconductor Processingenables researchers and developersto extend the scaling range of semiconductor devices beyond the parameter range of empirical research. It requires a thorough understanding of the basic mechanisms emp…loyed in device fabrication, such as diffusion, ion implantation, epitaxy, defect formation and annealing, and contamination. This book presents an in-depth discussion of our current understanding of key processes and identifies areas that require further work in order to achieve the goal of a comprehensive, predictive process simulation tool.
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Buch. Zustand: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - Predictive Simulation of Semiconductor Processingenables researchers and developersto extend the scaling range of semiconductor devices beyond the parameter range of empirical research. It requires a thorough understanding of the basic mechanisms employed i…n device fabrication, such as diffusion, ion implantation, epitaxy, defect formation and annealing, and contamination. This book presents an in-depth discussion of our current understanding of key processes and identifies areas that require further work in order to achieve the goal of a comprehensive, predictive process simulation tool.
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Gebunden. Zustand: New. Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. InhaltsverzeichnisFundamental concepts and methods the famous Si(001) surface atomically flat and clean surfaces morphology of clean silicon surfaces chemical properties of silicon surfaces on the road to devi…ces.Klappen.
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Zustand: New. Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. Detailed and up-to-date explanation of the key processes in semiconductor technology and their computational simulationJ. Dabrowski: Born in Warsaw, Poland, Sept. 29, 1958. PhD, Institute of Physics of the Polish Academ…y of Science (IF PAN), W.
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Zustand: New. Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. Detailed and up-to-date explanation of the key processes in semiconductor technology and their computational simulationJ. Dabrowski: Born in Warsaw, Poland, Sept. 29, 1958. PhD, Institute of Physics of the Polish Academ…y of Science (IF PAN), W.
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Taschenbuch. Zustand: Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -Predictive Simulation of Semiconductor Processingenables researchers and developersto extend the scaling range of semiconductor devices beyond the parameter range of empirical research. It requires a thorough understanding of the basi…c mechanisms employed in device fabrication, such as diffusion, ion implantation, epitaxy, defect formation and annealing, and contamination. This book presents an in-depth discussion of our current understanding of key processes and identifies areas that require further work in order to achieve the goal of a comprehensive, predictive process simulation tool. 516 pp. Englisch.
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Buch. Zustand: Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -Predictive Simulation of Semiconductor Processingenables researchers and developersto extend the scaling range of semiconductor devices beyond the parameter range of empirical research. It requires a thorough understanding of the basic mecha…nisms employed in device fabrication, such as diffusion, ion implantation, epitaxy, defect formation and annealing, and contamination. This book presents an in-depth discussion of our current understanding of key processes and identifies areas that require further work in order to achieve the goal of a comprehensive, predictive process simulation tool. 516 pp. Englisch.
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Buch. Zustand: Neu. SILICON SURFACES & FORMATION OF. | Dabrowski Jarek | Buch | Gebunden | Englisch | 2000 | World Scientific | EAN 9789810232863 | Verantwortliche Person für die EU: Libri GmbH, Europaallee 1, 36244 Bad Hersfeld, gpsr[at]libri[dot]de | Anbieter: preigu Print on Demand.
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Verlag: Springer Berlin Heidelberg, Springer Berlin Heidelberg Mai 2004, 2004
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Buch. Zustand: Neu. This item is printed on demand - Print on Demand Titel. Neuware -Predictive Simulation of Semiconductor Processing enables researchers and developers to extend the scaling range of semiconductor devices beyond the parameter range of empirical research. It requires a thorough understanding of the basic mechani…sms employed in device fabrication, such as diffusion, ion implantation, epitaxy, defect formation and annealing, and contamination. This book presents an in-depth discussion of our current understanding of key processes and identifies areas that require further work in order to achieve the goal of a comprehensive, predictive process simulation tool.Springer-Verlag GmbH, Tiergartenstr. 17, 69121 Heidelberg 516 pp. Englisch.
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Buch. Zustand: Neu. nach der Bestellung gedruckt Neuware - Printed after ordering - Silicon, the basic material for a multibillion-dollar industry, is the most widely researched and applied semiconductor, and its surfaces are the most thoroughly studied of all semiconductor surfaces. Silicon Surfaces and Formation of Interfaces…may be used as an introduction to graduate-level physics and chemical physics. Moreover, it gives a specialized and comprehensive description of the most common faces of silicon crystals as well as their interaction with adsorbates and overlayers. This knowledge is presented in a systematic and easy-to-follow way. Discussion of each system is preceded by a brief overview which categorizes the features and physical mechanisms before the details are presented. The literature is easily available, and the references are numerous and organized in tables, allowing a search without the need to browse through the text.Though this volume focuses on a scientific understanding of physics on the atomistic and mesoscopic levels, it also highlights existing and potential links between basic research in surface science and applications in the silicon industry. It will be valuable to anyone writing a paper, thesis, or proposal in the field of silicon surfaces.
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