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Helium Ion Microscopy: Principles and Applications (SpringerBriefs in Materials)
Buch 5 von 68: SpringerBriefs in MaterialsAnbieter: Scissortail, Oklahoma City, OK, USA
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Helium Ion Microscopy : Principles and Applications
Buch 5 von 68: SpringerBriefs in MaterialsAnbieter: GreatBookPrices, Columbia, MD, USA
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
Zustand: New.
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Helium Ion Microscopy: Principles and Applications (SpringerBriefs in Materials)
Buch 5 von 68: SpringerBriefs in MaterialsAnbieter: California Books, Miami, FL, USA
Verkäuferbewertung 4 von 5 Sternen
Zustand: New.
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Helium Ion Microscopy: Principles and Applications (SpringerBriefs in Materials)
Buch 5 von 68: SpringerBriefs in MaterialsAnbieter: Ria Christie Collections, Uxbridge, Vereinigtes Königreich
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
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Zustand: New. pp. 74 Index.
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Helium Ion Microscopy: Principles and Applications
Buch 5 von 68: SpringerBriefs in MaterialsAnbieter: Revaluation Books, Exeter, Vereinigtes Königreich
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
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In den WarenkorbPaperback. Zustand: Brand New. 2013 edition. 70 pages. 9.00x6.00x0.25 inches. In Stock.
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Helium Ion Microscopy : Principles and Applications
Buch 5 von 68: SpringerBriefs in MaterialsAnbieter: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Deutschland
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
Taschenbuch. Zustand: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - Helium Ion Microscopy: Principles and Applications describes the theory and discusses the practical details of why scanning microscopes using beams of light ions - such as the Helium Ion Microscope (HIM) - are destined to become the imaging tools of choice for the 21st century. Topics covered include the principles, operation, and performance of the Gaseous Field Ion Source (GFIS), and a comparison of the optics of ion and electron beam microscopes including their operating conditions, resolution, and signal-to-noise performance. The physical principles of Ion-Induced Secondary Electron (iSE) generation by ions are discussed, and an extensive database of iSE yields for many elements and compounds as a function of incident ion species and its energy is included. Beam damage and charging are frequently outcomes of ion beam irradiation, and techniques to minimize such problems are presented. In addition to imaging, ions beams can be used for the controlled deposition, or removal, of selected materials with nanometer precision. The techniques and conditions required for nanofabrication are discussed and demonstrated. Finally, the problem of performing chemical microanalysis with ion beams is considered. Low energy ions cannot generate X-ray emissions, so alternative techniques such as Rutherford Backscatter Imaging (RBI) or Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS) are examined.
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Taschenbuch. Zustand: Neu. Helium Ion Microscopy | Principles and Applications | David C. Joy | Taschenbuch | SpringerBriefs in Materials | viii | Englisch | 2013 | Springer | EAN 9781461486596 | Verantwortliche Person für die EU: Springer Verlag GmbH, Tiergartenstr. 17, 69121 Heidelberg, juergen[dot]hartmann[at]springer[dot]com | Anbieter: preigu.
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Helium Ion Microscopy: Principles and Applications (SpringerBriefs in Materials)
Buch 5 von 68: SpringerBriefs in MaterialsAnbieter: Mispah books, Redhill, SURRE, Vereinigtes Königreich
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Helium Ion Microscopy : Principles and Applications
Buch 5 von 68: SpringerBriefs in MaterialsAnbieter: GreatBookPrices, Columbia, MD, USA
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Helium Ion Microscopy (NanoScience and Technology)
Anbieter: Ria Christie Collections, Uxbridge, Vereinigtes Königreich
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Helium Ion Microscopy (NanoScience and Technology)
Anbieter: Ria Christie Collections, Uxbridge, Vereinigtes Königreich
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EUR 252,63
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Helium Ion Microscopy
Anbieter: GreatBookPrices, Columbia, MD, USA
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
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Helium Ion Microscopy
Anbieter: GreatBookPrices, Columbia, MD, USA
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
Zustand: New.
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Helium Ion Microscopy
Anbieter: GreatBookPrices, Columbia, MD, USA
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
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Helium Ion Microscopy
Anbieter: GreatBookPrices, Columbia, MD, USA
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Taschenbuch. Zustand: Neu. Helium Ion Microscopy | Gregor Hlawacek (u. a.) | Taschenbuch | xxiii | Englisch | 2018 | Springer | EAN 9783319824734 | Verantwortliche Person für die EU: Springer Verlag GmbH, Tiergartenstr. 17, 69121 Heidelberg, juergen[dot]hartmann[at]springer[dot]com | Anbieter: preigu.
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Zustand: New. pp. 549.
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Helium Ion Microscopy
Sprache: Englisch
Verlag: Springer International Publishing, 2016
ISBN 10: 3319419889 ISBN 13: 9783319419886
Anbieter: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Deutschland
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
Buch. Zustand: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - This book covers the fundamentals of Helium Ion Microscopy (HIM) including the Gas Field Ion Source (GFIS), column and contrast formation. It also provides first hand information on nanofabrication and high resolution imaging. Relevant theoretical models and the existing simulation approaches are discussed in an extra section. The structure of the book allows the novice to get acquainted with the specifics of the technique needed to understand the more applied chapters in the second half of the volume. The expert reader will find a complete reference of the technique covering all important applications in several chapters written by the leading experts in the field. This includes imaging of biological samples, resist and precursor based nanofabrication, applications in semiconductor industry, using Helium as well as Neon and many more. The fundamental part allows the regular HIM user to deepen his understanding of the method. A final chapter by Bill Ward, one of the pioneers of HIM, covering the historical developments leading to the existing tool complements the content.
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Helium Ion Microscopy
Anbieter: AHA-BUCH GmbH, Einbeck, Deutschland
Verkäuferbewertung 5 von 5 Sternen
Taschenbuch. Zustand: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - This book covers the fundamentals of Helium Ion Microscopy (HIM) including the Gas Field Ion Source (GFIS), column and contrast formation. It also provides first hand information on nanofabrication and high resolution imaging. Relevant theoretical models and the existing simulation approaches are discussed in an extra section. The structure of the book allows the novice to get acquainted with the specifics of the technique needed to understand the more applied chapters in the second half of the volume. The expert reader will find a complete reference of the technique covering all important applications in several chapters written by the leading experts in the field. This includes imaging of biological samples, resist and precursor based nanofabrication, applications in semiconductor industry, using Helium as well as Neon and many more. The fundamental part allows the regular HIM user to deepen his understanding of the method. A final chapter by Bill Ward, one of the pioneers of HIM, covering the historical developments leading to the existing tool complements the content.
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Helium Ion Microscopy
Anbieter: Revaluation Books, Exeter, Vereinigtes Königreich
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Helium Ion Microscopy (NanoScience and Technology)
Anbieter: Mispah books, Redhill, SURRE, Vereinigtes Königreich
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Helium Ion Microscopy (eng)
Buch 5 von 68: SpringerBriefs in MaterialsAnbieter: Brook Bookstore On Demand, Napoli, NA, Italien
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Helium Ion Microscopy
Buch 5 von 68: SpringerBriefs in MaterialsSprache: Englisch
Verlag: Springer New York Sep 2013, 2013
ISBN 10: 1461486599 ISBN 13: 9781461486596
Anbieter: BuchWeltWeit Ludwig Meier e.K., Bergisch Gladbach, Deutschland
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Taschenbuch. Zustand: Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -Helium Ion Microscopy: Principles and Applications describes the theory and discusses the practical details of why scanning microscopes using beams of light ions - such as the Helium Ion Microscope (HIM) - are destined to become the imaging tools of choice for the 21st century. Topics covered include the principles, operation, and performance of the Gaseous Field Ion Source (GFIS), and a comparison of the optics of ion and electron beam microscopes including their operating conditions, resolution, and signal-to-noise performance. The physical principles of Ion-Induced Secondary Electron (iSE) generation by ions are discussed, and an extensive database of iSE yields for many elements and compounds as a function of incident ion species and its energy is included. Beam damage and charging are frequently outcomes of ion beam irradiation, and techniques to minimize such problems are presented. In addition to imaging, ions beams can be used for the controlled deposition, or removal, of selected materials with nanometer precision. The techniques and conditions required for nanofabrication are discussed and demonstrated. Finally, the problem of performing chemical microanalysis with ion beams is considered. Low energy ions cannot generate X-ray emissions, so alternative techniques such as Rutherford Backscatter Imaging (RBI) or Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS) are examined. 72 pp. Englisch.
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Helium Ion Microscopy
Buch 5 von 68: SpringerBriefs in MaterialsAnbieter: Majestic Books, Hounslow, Vereinigtes Königreich
Verkäuferbewertung 4 von 5 Sternen
EUR 78,89
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In den WarenkorbZustand: New. Print on Demand pp. 74 29 Illus. (16 Col.).
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Helium Ion Microscopy
Buch 5 von 68: SpringerBriefs in MaterialsAnbieter: Biblios, Frankfurt am main, HESSE, Deutschland
Verkäuferbewertung 4 von 5 Sternen
Zustand: New. PRINT ON DEMAND pp. 74.
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Helium Ion Microscopy
Buch 5 von 68: SpringerBriefs in MaterialsSprache: Englisch
Verlag: Springer, Springer Sep 2013, 2013
ISBN 10: 1461486599 ISBN 13: 9781461486596
Anbieter: buchversandmimpf2000, Emtmannsberg, BAYE, Deutschland
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Taschenbuch. Zustand: Neu. This item is printed on demand - Print on Demand Titel. Neuware -Helium Ion Microscopy: Principles and Applications describes the theory and discusses the practical details of why scanning microscopes using beams of light ions ¿ such as the Helium Ion Microscope (HIM) ¿ are destined to become the imaging tools of choice for the 21st century. Topics covered include the principles, operation, and performance of the Gaseous Field Ion Source (GFIS), and a comparison of the optics of ion and electron beam microscopes including their operating conditions, resolution, and signal-to-noise performance. The physical principles of Ion-Induced Secondary Electron (iSE) generation by ions are discussed, and an extensive database of iSE yields for many elements and compounds as a function of incident ion species and its energy is included. Beam damage and charging are frequently outcomes of ion beam irradiation, and techniques to minimize such problems are presented. In addition to imaging, ions beams can be used for the controlled deposition, or removal, of selected materials with nanometer precision. The techniques and conditions required for nanofabrication are discussed and demonstrated. Finally, the problem of performing chemical microanalysis with ion beams is considered. Low energy ions cannot generate X-ray emissions, so alternative techniques such as Rutherford Backscatter Imaging (RBI) or Secondary Ion Mass Spectrometry (SIMS) are examined.Springer-Verlag KG, Sachsenplatz 4-6, 1201 Wien 72 pp. Englisch.
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Helium Ion Microscopy (eng)
Anbieter: Brook Bookstore On Demand, Napoli, NA, Italien
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Helium Ion Microscopy (eng)
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