Kawa jamil (27 Ergebnisse)
Sprache: Englisch
Verlag: Springer, 2007
- Hardcover
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Sprache: Englisch
Verlag: Springer, 2007
- Softcover
- Internationale Ausgabe
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Sprache: Englisch
Verlag: Springer, 2007
- Hardcover
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Sprache: Spanisch
Verlag: Springer, 2007
- Softcover
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Zustand: Good. : Este libro aborda el diseño para la fabricabilidad y el rendimiento de CMOS a nanoescala. Explora los desafíos y soluciones en el diseño de circuitos integrados a nanoescala, centrándose en la optimización para la fabricación y el rendimiento. Cubre temas como la variabilidad del proceso, la gestión de la energí…a y las técnicas de diseño para mejorar la fiabilidad y el rendimiento de los sistemas CMOS a nanoescala. EAN: 9781402051876 Tipo: Libros Categoría: Tecnología|Ciencias Título: Design for Manufacturability and Yield for Nano-Scale CMOS Autor: Charles Chiang| Jamil Kawa Editorial: Springer Idioma: eng Páginas: 253 Formato: tapa dura.
Sprache: Englisch
Verlag: Springer, 2007
- Hardcover
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EUR 41,91
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Sprache: Englisch
Verlag: Springer, 2007
- Hardcover
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Sprache: Englisch
Verlag: Springer, 2007
- Hardcover
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Sprache: Englisch
Verlag: Springer, 2007
- Hardcover
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Sprache: Englisch
Verlag: Springer, 2007
- Hardcover
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Sprache: Englisch
Verlag: Springer, 2007
- Hardcover
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Sprache: Englisch
Verlag: Springer, 2010
- Softcover
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Sprache: Englisch
Verlag: Springer, 2007
- Hardcover
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Sprache: Englisch
Verlag: Springer, 2007
- Hardcover
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Sprache: Englisch
Verlag: Springer, 2007
- Hardcover
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Sprache: Englisch
Verlag: Springer, 2007
- Hardcover
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Verlag: Springer, 2010
- Softcover
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Verlag: Springer, 2007
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Sprache: Englisch
Verlag: Springer, 2010
- Softcover
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Sprache: Englisch
Verlag: Springer Netherlands, Springer, 2010
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Taschenbuch. Zustand: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - Design for Manufacturability and Yield for Nano-Scale CMOS walks the reader through all the aspects of manufacturability and yield in a nano-CMOS process and how to address each aspect at the proper design step starting with the design and layout of…standard cells and how to yield-grade libraries for critical area and lithography artifacts through place and route, CMP model based simulation and dummy-fill insertion, mask planning, simulation and manufacturing, and through statistical design and statistical timing closure of the design. It alerts the designer to the pitfalls to watch for and to the good practices that can enhance a design's manufacturability and yield. This book is a must read book the serious practicing IC designer and an excellent primer for any graduate student intent on having a career in IC design or in EDA tool development.
Sprache: Englisch
Verlag: Springer, Springer Netherlands, 2007
- Hardcover
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Buch. Zustand: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - Design for Manufacturability and Yield for Nano-Scale CMOS walks the reader through all the aspects of manufacturability and yield in a nano-CMOS process and how to address each aspect at the proper design step starting with the design and layout of standar…d cells and how to yield-grade libraries for critical area and lithography artifacts through place and route, CMP model based simulation and dummy-fill insertion, mask planning, simulation and manufacturing, and through statistical design and statistical timing closure of the design. It alerts the designer to the pitfalls to watch for and to the good practices that can enhance a design's manufacturability and yield. This book is a must read book the serious practicing IC designer and an excellent primer for any graduate student intent on having a career in IC design or in EDA tool development.
Sprache: Englisch
Verlag: Springer, 2007
- Hardcover
Anbieter: Mispah books, Redhill, SURRE, Vereinigtes KönigreichMispah books
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EUR 176,21
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Sprache: Englisch
Verlag: Springer Netherlands Nov 2010, 2010
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Anbieter: BuchWeltWeit Ludwig Meier e.K., Bergisch Gladbach, DeutschlandBuchWeltWeit Ludwig Meier e.K.
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Taschenbuch. Zustand: Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -This book walks the reader through all the aspects of manufacturability and yield in a nano-CMOS process. It covers all CAD/CAE aspects of a SOC design flow and addresses a new topic (DFM/DFY) critical at 90 nm and beyond. This book i…s a must read book the serious practicing IC designer and an excellent primer for any graduate student intent on having a career in IC design or in EDA tool development. 288 pp. Englisch.
Sprache: Englisch
Verlag: Springer Netherlands Jul 2007, 2007
- Hardcover
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Buch. Zustand: Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -This book walks the reader through all the aspects of manufacturability and yield in a nano-CMOS process. It covers all CAD/CAE aspects of a SOC design flow and addresses a new topic (DFM/DFY) critical at 90 nm and beyond. This book is a mus…t read book the serious practicing IC designer and an excellent primer for any graduate student intent on having a career in IC design or in EDA tool development. 288 pp. Englisch.
Sprache: Englisch
Verlag: Springer Netherlands, 2007
- Hardcover
- Print-on-Demand
Anbieter: moluna, Greven, Deutschlandmoluna
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EUR 92,27
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Zustand: New. Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. Addressing a new topic (DFM/DFY) critical at 90 nm and beyondNo book available today with comprehensive coverage of this topicBook covers all CAD/CAE aspects of a SOC design flowDr. Charles Chiang is R&D Director of…the Advanced.
Sprache: Englisch
Verlag: Springer Netherlands, 2010
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Zustand: New. Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. Addressing a new topic (DFM/DFY) critical at 90 nm and beyondNo book available today with comprehensive coverage of this topicBook covers all CAD/CAE aspects of a SOC design flowDr. Charles Chiang is R&D Director of…the Advanced.
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Verlag: Springer, 2010
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Sprache: Englisch
Verlag: Springer, 2010
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Zustand: New. PRINT ON DEMAND pp. 288.
