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Gr.-8° Gebundene Ausgabe. Zustand: Neu. Pietsch, Jürgen M (illustrator). 1. Auflage. 96 Seiten Gebundenes Buch. Buch ist neu, aus priv. Vorbesitz. original eingeschweisst. ISBN: 9783000084423 Wir senden umgehend mit beiliegender MwSt.Rechnung. Sprache: Deutsch Gewicht in Gramm: 561.
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Hardcover. Ex-library with stamp and library-signature. GOOD condition, some traces of use. C-02760 9783540620297 Sprache: Englisch Gewicht in Gramm: 1050.
Sprache: Deutsch
Verlag: Museum für Kunst- und Kulturgeschichte, Lübeck, 1980
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kartonierte Ausgabe. Zustand: Gut. 101 Seiten, schwarz-weiße Abbildungen, Inhaltsverzeichnis, abgekürzt zitierte Literatur, illustrierter Einband Dieser Auswahlkatalog erschien anläßlich der Ausstellung "Neuerwerbungen 1974-1979" im Museum Behnhaus vom 13. Juni bis 20. Juli 1980. Sprache: Deutsch Gewicht in Gramm: 200.
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Hardcover. 2nd ed. XVI, 408 Ex-library with stamp and library-signature. GOOD condition, some traces of use. Ehem. Bibliotheksexemplar mit Signatur und Stempel. GUTER Zustand, ein paar Gebrauchsspuren. C-05638 9780387400921 Sprache: Englisch Gewicht in Gramm: 550.
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Zustand: New. pp. 428.
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In den WarenkorbPaperback. Zustand: Brand New. 2nd edition. 410 pages. 9.00x6.00x1.00 inches. In Stock.
Sprache: Englisch
Verlag: Springer New York, Springer US, 2011
ISBN 10: 1441923071 ISBN 13: 9781441923073
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Taschenbuch. Zustand: Neu. Druck auf Anfrage Neuware - Printed after ordering - During the last 20 years interest in high-resolution x-ray diffractometry and reflectivity has grown as a result of the development of the semiconductor industry and the increasing interest in material research of thin layers of magnetic, organic, and other materials. For example, optoelectronics requires a subsequent epitaxy of thin layers of different semiconductor materials. Here, the individuallayer thicknesses are scaled down to a few atomic layers in order to exploit quantum effects. For reasons of electronic and optical confinement, these thin layers are embedded within much thicker cladding layers or stacks of multilayers of slightly different chemical composition. It is evident that the interface quality of those quantum weHs is quite important for the function of devices. Thin metallic layers often show magnetic properties which do not ap pear for thick layers or in bulk material. The investigation of the mutual interaction of magnetic and non-magnetic layers leads to the discovery of colossal magnetoresistance, for example. This property is strongly related to the thickness and interface roughness of covered layers.
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Sprache: Englisch
Verlag: Springer New York Dez 2011, 2011
ISBN 10: 1441923071 ISBN 13: 9781441923073
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Taschenbuch. Zustand: Neu. This item is printed on demand - it takes 3-4 days longer - Neuware -During the last 20 years interest in high-resolution x-ray diffractometry and reflectivity has grown as a result of the development of the semiconductor industry and the increasing interest in material research of thin layers of magnetic, organic, and other materials. For example, optoelectronics requires a subsequent epitaxy of thin layers of different semiconductor materials. Here, the individuallayer thicknesses are scaled down to a few atomic layers in order to exploit quantum effects. For reasons of electronic and optical confinement, these thin layers are embedded within much thicker cladding layers or stacks of multilayers of slightly different chemical composition. It is evident that the interface quality of those quantum weHs is quite important for the function of devices. Thin metallic layers often show magnetic properties which do not ap pear for thick layers or in bulk material. The investigation of the mutual interaction of magnetic and non-magnetic layers leads to the discovery of colossal magnetoresistance, for example. This property is strongly related to the thickness and interface roughness of covered layers. 428 pp. Englisch.
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In den WarenkorbZustand: New. Dieser Artikel ist ein Print on Demand Artikel und wird nach Ihrer Bestellung fuer Sie gedruckt. During the last 20 years interest in high-resolution x-ray diffractometry and reflectivity has grown as a result of the development of the semiconductor industry and the increasing interest in material research of thin layers of magnetic, organic, and other.
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Taschenbuch. Zustand: Neu. High-Resolution X-Ray Scattering | From Thin Films to Lateral Nanostructures | Ullrich Pietsch (u. a.) | Taschenbuch | Advanced Texts in Physics | xvi | Englisch | 2011 | Springer | EAN 9781441923073 | Verantwortliche Person für die EU: Springer Verlag GmbH, Tiergartenstr. 17, 69121 Heidelberg, juergen[dot]hartmann[at]springer[dot]com | Anbieter: preigu Print on Demand.
Sprache: Englisch
Verlag: Springer, Springer Dez 2011, 2011
ISBN 10: 1441923071 ISBN 13: 9781441923073
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Taschenbuch. Zustand: Neu. This item is printed on demand - Print on Demand Titel. Neuware -During the last 20 years interest in high-resolution x-ray diffractometry and reflectivity has grown as a result of the development of the semiconductor industry and the increasing interest in material research of thin layers of magnetic, organic, and other materials. For example, optoelectronics requires a subsequent epitaxy of thin layers of different semiconductor materials. Here, the individuallayer thicknesses are scaled down to a few atomic layers in order to exploit quantum effects. For reasons of electronic and optical confinement, these thin layers are embedded within much thicker cladding layers or stacks of multilayers of slightly different chemical composition. It is evident that the interface quality of those quantum weHs is quite important for the function of devices. Thin metallic layers often show magnetic properties which do not ap pear for thick layers or in bulk material. The investigation of the mutual interaction of magnetic and non-magnetic layers leads to the discovery of colossal magnetoresistance, for example. This property is strongly related to the thickness and interface roughness of covered layers.Springer-Verlag KG, Sachsenplatz 4-6, 1201 Wien 428 pp. Englisch.